日本orc半導體光刻機

產(chǎn)品型號：PPS-8200p1/8300p1
更新時間：2024-08-24

簡要描述：日本orc半導體光刻機 PPS-8200p1/8300p1
用途：支持各種應(yīng)用
特長
-寬頻譜光刻　(與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)
-搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1)
-最多8Field的拼接設(shè)計格式
-光學系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周圍環(huán)境中化學物質(zhì)影響

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產(chǎn)品詳情

品牌	其他品牌

日本orc半導體光刻機 PPS-8200p1/8300p1

用途：支持各種應(yīng)用

特長

-寬頻譜光刻　(與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)

-搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1)

-最多8Field的拼接設(shè)計格式

-光學系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周圍環(huán)境中化學物質(zhì)影響

制品規(guī)格

型式	PPS-8200p1/8300p1
wafer尺寸	6/8/12 英寸
NA（開口數(shù)）	0.16、0.1可變
縮小比	1:1
Field尺寸	52mm × 33mm
光刻波長	ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動)
視野尺寸	6inch
重復對位精度	≦0.5 µm(\|Ave\|+3σ)
裝置尺寸／重量	（W）2,260×（D）3,460×（H）2,500mm / 5,500kg

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用途：支持各種應(yīng)用

特長

-寬頻譜光刻　(與菜單連動的 ghi線 gh線, i線的自動切換)

-搭載可變NA功能 (可變?yōu)?.16和0.1)

-最多8Field的拼接設(shè)計格式

-光學系統(tǒng)不受感光材揮發(fā)氣體和周圍環(huán)境中化學物質(zhì)影響

制品規(guī)格

型式	PPS-8200p1/8300p1
wafer尺寸	6/8/12 英寸
NA（開口數(shù)）	0.16、0.1可變
縮小比	1:1
Field尺寸	52mm × 33mm
光刻波長	ghi-Line gh-line i-line(與菜單連動)
視野尺寸	6inch
重復對位精度	≦0.5 µm(\|Ave\|+3σ)
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